Products : Plasma Systems
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플라즈마의 개요 및 응용 분야 * 균질의 Glow plasma 발생에 의한 표면 개질(Cleaning, Activation, etc.) * 대기압, 저전력 및 저온 플라즈마 * Arcing 에 의한 처리시료의 손상 없음 * 터치패널, 스마트폰 응용(카메라모듈 조립, 케이스 표면 처리 등) * 디스플레이, (F)PCB, 반도체, 나노, MEMS, 필름(Roll to Roll) 분야 * 의료/바이오(혈당체크 시트, 혈중순환 암세포 채집용 칩), 치과(임플란트), 미용 분야 * 납땜, 접착, 몰딩, 마킹, 인쇄, 코팅 및 페인팅 등의 전처리 작업 * 표면세척, 활성화, 에칭, 식각 및 정전기 제거 시스템 사양 * RF전원(13.56Mhz) : 300W, 600W, 1kW, 3kW (DBD Type) * MF전원(22~23Khz) : 7~8kV, ~150W (Pin & Gun Type) * Plasma 헤드규격 : 100mm ~ 500mm (표준) - 500mm 이상은 특별사양 * 사용 Gas : Ar (He, O2, H2, etc.)
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Manual System * 헤드 형태 및 길이 : 150mm ~ 200mm(표준) * 샘플이동방식 : 매뉴얼 이동 방식 * Ar, O2 조절 : Flowmeter & MFC 제어(옵션) * 헤드높이 조절 : 수동 * 납품 실적 : 정부산하기관, 학교, 기업체 R&D 센터 |
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All in One System * 헤드 형태 및 길이 : 150mm ~ 300mm(표준) * 샘플이동방식 : 모터 스테이지 자동 이동 방식 * Ar, O2 조절 : MFC 정량 제어 * 헤드높이 조절 : 수동 * 조작 방식 : Touch Screen * 납품 실적 : 혈중순환종양세포 채집용 칩 제조 * 설치 : Desk Top |
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Modular System * 헤드길이 : 150~400mm(표준) * 샘플이동방식 : 구매사용자측 결정 * Ar, O2 조절 : MFC에 의한 정량제어 * 헤드높이 조절 : 수동 |
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Conveyor & R To R System * 헤드길이 : 400mm ~ 550mm (표준) * 샘플이동방식 : 컨베어벨트 * 모터속도 및 시스템제어방식 : PLC * Ar, O2 조절 : MFC에 의한 정량제어 * 헤드높이 조절 : 수동 * 조작방식 : touch screen * 납품실적 : 동박필름 R to R 제조생산 |
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Pin Type Plasma * Low temperature plasma and focused area treatment * Handheld type plasma head * Plasma diameter : 1~2mm * Plasma length : ~15mm * Ar 유량 : 1.5 slm * Voltage : 7~8kV * Current ; 25mA * Voltage frequency : 22~23kHz |
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Gun Type Plasma * Low temp. & Ozone, None electric shock * For Medical/Bio/Beauty applications * Plasma flame diameter : 1~2mm * Plasma flame length : ~10mm * Gas flow : Ar(5~8slm), O2(5~10sccm) * Output voltage : 3~4kV * Frequency : 30~120kHz * Duty : 14~50% |
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Implasma(Dental)
System * 치과용 임플란트의 식립전 표면처리 * Plasma 형태 : 표면방전 튜브 타입 * Ar 유량 : 약 5 slm (솔레노이드 밸브 제어) * 입력전압 : 24VDC 5A * MF Voltage & frequency : ~12kV & ~50kHz |
 
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접촉각 측정 System * Plasma 처리 후, 표면의 개질 효과 간이 측정 * 매뉴얼 측정의 심플한 구성 * 이미지의 좌, 우측 접촉각 측정 * 선명한 이미지 확보를 위한 LED 광원 채택 * X, Z축 이송에 의한 최적화 이미지 생성 |